Los métodos de la SILAR La deposición de películas finas

el método de absorción y reacción iónica capa sucesiva se utiliza para crear películas delgadas a partir de una variedad de diferentes substratos y para producir recubrimientos para diferentes aplicaciones, incluyendo paneles solares y semiconductores . El método es un método SILAR solución del baño químico que es una extensión del método de producción de película delgada baño químico similar. Método

El método SILAR primero fue registrado como siendo utilizado en 1985 en un entorno de laboratorio , con el nombre SILAR utilizado por primera vez en las revistas científicas de ese mismo año , según la Academia India de Ciencias . El método de producción de película delgada conocida como SILAR requiere que la película se sumerge en los productos químicos necesarios para la creación de una solución química sobre el sustrato . Entre cada inmersión de la película en los productos químicos , la película se enjuaga con agua purificada para crear el revestimiento deseado sobre la película .
Materiales

Una de las ventajas de el método SILAR de recubrir películas finas es el número de diferentes materiales que pueden ser utilizados para crear una película para una aplicación deseada . Materiales que se pueden utilizar en el método incluyen sustratos sensibles a la temperatura , tales como poliéster porque el método SILAR se completa en o cerca de la temperatura ambiente , es decir, el daño no es causado por las temperaturas extremas de otros métodos de película delgada . Los materiales como los semiconductores que se pueden dañar en otros métodos se pueden crear en el método SILAR de la producción de película delgada .
Producción

Se utiliza el método SILAR para crear recubrimientos sobre películas delgadas para productos tecnológicos tales como células fotovoltaicas que convierten la luz solar en energía para su uso en aplicaciones de energía solar. Al permitir que las películas delgadas a recubrir en diferentes productos químicos en o cerca de la temperatura ambiente , películas metálicas o películas que incorporan piezas metálicas puede utilizar el método SILAR y evitar posibles problemas con el daño causado por la oxidación o corrosión , la Academia India de Ciencias informa . Otros métodos de deposición de película delgada utilizan la transferencia de átomos para proporcionar un recubrimiento sobre películas delgadas . El método SILAR utiliza la transferencia de iones que proporciona una mejor cobertura de los productos químicos sobre la película , y puede dar lugar a una estructura de grano más fino que otros métodos de deposición .

Ventajas

las principales ventajas del método de deposición SILAR incluyen la facilidad de completar el método y el bajo costo relativo. Para pequeñas cantidades de sustratos a ser tratados utilizando el método de SILAR , el proceso se puede completar utilizando vasos de precipitados de vidrio. La Academia India de Ciencias afirma el método SILAR no requiere los materiales de alta calidad utilizados en otros procesos de deposición , tales como la deposición de vapor cerrada . La facilidad de uso permite que el espesor de películas delgadas creado utilizando el método SILAR a controlar con más facilidad que en otras aplicaciones .